| 機器・設備名 | 性能等 |
|---|---|
| 電子顕微鏡 日本電子(株) JSM-7001GC 開放利用可 |
倍率：10～1百万倍 加速電圧：0.5～30 kV 内分解能：1.2 nm(30 kV)、3.0 nm(1 kV) 最大試料サイズ：直径 100 mm 検出可能元素：B～U |
| レーザー顕微鏡 (株)キーエンス VK-X1100 開放利用可 |
レーザー光源 ： 紫色レーザー(波長 404 nm) カラー光源 ： 白色LED 最大試料サイズ： 縦 100×横 100×高さ 100 mm 表示分解能 ： 1 nm(幅)、0.5 nm(高さ) |
| 蛍光X線分析装置 (株)リガク ZSX PrimusⅣ |
X線検出方式：波長分散型 検出可能元素：F～U 最大試料サイズ：直径 50mm もしくは 35mm角 分析機能：定性、定量、半定量(SQX) |
| X線回折装置 (株)リガク ULTIMA-Ⅳ |
Ｘ線管球：Cu、Cr Ｘ線発生装置出力：3 kW 試料：水平型 検出器：一次元半導体検出器(D/Tex Ultra) |
| 高周波プラズマ発光分析装置 (株)島津製作所 ICPS-8100 |
形式：シーケンシャル型、副分光器内蔵 測定元素数：72 元素 波長範囲： 160～850 nm 分解能：0.0045 nm プラズマ源：アルゴン |
| 原子吸光光度計 Analytik Jena ZEEnit 700 P |
測定モード：フレーム／ファーネス 測定波長範囲：185～900 nm バックグラウンド補正：D2またはゼーマン 検出器：光電子増倍管（PMT） |
| 粒度分布測定装置 (株)島津製作所 SALD2200J 開放利用可 |
測定原理：レーザ回折・散乱法 測定範囲：0.03～1000 μm 光源：赤色半導体レーザ(波長 680 nm） セル：バッチ式回分セル |
| 自動真密度測定装置 マイクロトラックベル(株) BEL PYCNO 開放利用可 |
使用可能ガス：窒素、ヘリウム、その他の不活性ガス 測定セル：1 立方cm、3.5 立方cm、10 立方cm 繰り返し精度：±0.02 %FS(±0.002 立方cm)(10 立方cmセル利用時) |
| 液体分散安定性評価装置 Dispersion Technology DT-1202 |
粒度分布測定 測定原理：超音波減衰分光法 測定範囲：0.005～100μｍ ゼータ電位測定 測定原理：コロイド振動電流法 測定範囲：±100ｍV |
| レオメーター TA Instruments Discovery HR20 開放利用可 |
制御方式：応力制御/ひずみ制御 最小トルク：(振動) 1 nN･m (定常剪断) 3 nN･m 最大トルク：200 mN･m トルク分解能：0.1 nN･m 周波数範囲：100 nHz～100 Hz サンプル温度制御：-20～150 ℃ |
| ガス吸着測定装置 Anton Parr Autosorb 6100e |
比表面積解析方法：BET法、Langmuir法 〃 測定範囲：0.01 平米/g以上(窒素） 細孔分布解析方法：BJH法、 t-プロット法、 SF法、 NLDFT法 〃 測定範囲：0.35～500 nm |
| 熱分析装置 (株)リガク Thermo Plus |
<DSC> 熱流計測方式 : 熱流束型 測定温度範囲 : -150～725 ℃ <TMA> 測定温度範囲 : 室温～1350 ℃ 測定範囲 : ±2.5 mm <TG-DTA> 測定方式 : 水平差動式 測定温度範囲 :室温～1350 ℃ |
| 熱伝導率測定装置 NETZSCH LFA467HT HyperFlash 開放利用可 |
測定温度範囲：室温～1250 ℃ 熱拡散率：0.01 ～2000 mm/s 熱伝導率：0.1～4000 W/(m･K) サンプルチェンジャー：最大4個 |
| 熱膨張測定装置 (株)マックサイエンス TD5110S, TD5120S |
方式：横型熱膨張計 測定温度範囲：室温～1400 ℃ 試料長：50 mm 最大試料径：直径 12 mmまで(角柱の場合は対角 10 mm以内) |
| 高精度熱膨張計 NETZSCH DIL 402 Expedis Select |
検出方式：示差膨張式および全膨張式での測定が可能 測定温度範囲：室温～1500℃(常用) 測定雰囲気：空気、不活性ガス(真空置換) 試料長：52 mm 最大試料径：直径8 mm(同程度の大きさであれば円柱以外でも可) |
| 耐火度試験機 (株)株式会社共栄電気炉 HR-0N-8X |
試験炉：電気炉 温度範囲：sk26(1580 ℃)～sk36(1790 ℃) 焼成雰囲気：大気 |
| 水銀ポロシメーター Anton Parr POREMASTER-60 |
測定方法：水銀圧入式 測定範囲：細孔直径 0.0036～110 μm データ：全細孔容積、平均細孔径(中間径、モード径、中央径) |
| 曲げ試験機 (株)オリエンテック UTC-5T 開放利用可 |
負荷方式：コンピュータ制御システムによる、高精度定速ひずみ ロードセル：100，500，5000 kgf 試験ストローク：525 mm クロスヘッド速度：0.2～500mm/min |
| インパクト試験機 リサーチアシスト(有) RA-112 型 |
JIS S 2402、ASTM C 368-88 に基づく試験が可能 打撃点⾧さ：377 mm 打撃点高さ範囲：300 mm（試料中心打撃高さ最大 300 mm） 試料傾斜角度：0～30° |
| 弾性率測定装置 OLYMPUS㈱ Model 38DL PLUS 開放利用可 |
測定方式：超音波方式 測定モード：一探触子法(反射法) 探触子周波数域： 2～30MHz |
| 硬度計 明石製作所 MVK-H2 開放利用可 |
種類：ビッカース硬さ 範囲：HV1000 まで |
| 測色色差計 日本電色工業(株) SE6000 |
測定波長：380～780 nm サンプリングピッチ：10 nm 光源：A、C、D65、F6、F8、F10 測定方式：三刺激値、色度座標、L*a*b*、ﾊﾝﾀｰLab、LCH、ﾏﾝｾﾙなど |
| 光学顕微鏡 釉応力測定用顕微鏡 ㈱ニコン ECLIPSE E600POL デジタルマイクロスコープ オムロン㈱ VCR800 開放利用可 |
透過偏光型、倍率：40～1000倍 倍率：50～400倍 |
| ホットプレス 富士電波工業(株) FVPHP-R-5 FRET-20 |
プレス総圧力：4.9×104 N(5 ton) 試料ケース内径寸法：直径 100×高さ 90 mm 温度：(常用) 2200 ℃ (最高) 2300 ℃ 雰囲気ガス：窒素、アルゴン 雰囲気圧力：0.92 MPa |
| 高温雰囲気炉 モトヤマ(株) NHA-2025D-SP |
炉内寸法：W200×H200×D250 mm ヒーター容量：6 kW 温度(常用)：大気中 1700 ℃ 窒素中 1400 ℃ 温度(最高)：大気中 1700 ℃ 窒素中 1500 ℃ |
| マイクロ波ガス複合炉 (株)共栄電気炉製作所 MGK-51 型 開放利用可 |
基本構造：単窯(小型ファイバー炉) 炉内寸法：H950 × W800 × D715 mm(0.5立米) 熱源：マイクロ波発振器 12 kW(2.45 GHz) 小型省エネ強制ガスバーナー 8 基 温度(最高)：1400 ℃ |
| 手動フィルタープレス (株)マキノ M8-S5 開放利用可 |
ろ過板枚数：5 枚 ろ過室数：6 室 ろ過面積：0.27 平米(参考値) ろ過容積：2.7 L(参考値) ケーキ寸法：直径 170×20 ｍｍ(参考値) ケーキ１枚容量：0.45 L(参考値) |
| ローラーマシン 新栄機工(株) HR-B-40EP 開放利用可 |
ローラーヘッド数：1ヘッド 成形体：外コテ成形品(皿形状)、内コテ成形品(カップ形状) 成形ローラ回転数：300～800 rpm(インバーター変速) 成形部スライド：0～10 mmまで任意で調整可能 成形スピード：10～30 秒で任意で調整可能 石膏型吸着装置：真空吸着方式 |
| 供試体プレス成形機 ㈱後藤鉄工所 開放利用可 |
最大加圧：120トン |
| 真空土練機 高浜工業㈱ MPM120N 開放利用可 |
ステンレス製羽根 処理能力：300kg/h |
| 大型ダイヤモンドソー ラクソー(株) ME-300 開放利用可 |
切断能力：高 180 mm×懐 295 mm テーブル寸法：500×500 mm スライド：260 mm可動 鋸刃速度：50～600 m/min(調整可能) |
| 簡易切断機 ㈱メイハン KM8 開放利用可 |
湿式手動切断 スライドテーブル式 |
| 破砕・粉砕装置 開放利用可 |
ロールクラッシャー ジョークラッシャー フレット ボールミル 各種 |
